I. Hussla, K. Enke, H. Grünwald, G. Lorenz und H. Stoll, J. Phys. D: Appl. Phys.20, 889-896 (1987): “In Situ Silicon Wafer Temperature Measurements During RF Argon-Ion Plasma Etching via Fluoroptic Thermometry".
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I. Hussla, K. Enke, H. Grünwald, G. Lorenz und H. Stoll, J. Phys. D: Appl. Phys.20, 889-896 (1987): “In Situ Silicon Wafer Temperature Measurements During RF Argon-Ion Plasma Etching via Fluoroptic Thermometry".