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Thursday, August 26th, 2010

H. Grünwald, M. Jung, R. Kukla, R. Adam und S. Kunkel, Int. Symp. Plasma Chem., ISPC- 12, Proc. Workshop on Industial Applications of Plasma Chemistry Vol. A (Hrsg. A. Wendt und J.V. Heberlein), 61-70 (1995): "New Generation Sputtering and Plasma Polymerization Plant for Reflector Production".

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