Schriften Kategorie:
‘Elektrisch leitfähige Schichten’

7.

H. Suhr, A. Etspüler, E. Feurer, H. Grünwald, C. Haag und C. Oehr, Proc. 7th Int. Symp. Plasma Chem., ISPC-7, Eindhoven (Hrsg. D.C. Schram und G. J. Timmermans), 53-55 (1985): "Conducting, Semiconducting, and Isolating Thin Films".

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8.

H. Grünwald, H.S. Munro, DE 35 41 721 (26.11.85): „Verfahren zur Herstellung dünner, lochfreier, elektrisch leitender Polymerschichten".

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25.

H. Suhr, J. Bald, L. Deutschmann, A. Etspüler, E. Feurer, H. Grünwald, C. Haag, H. Holzschuh, C. Oehr, S. Reich, R. Schmid, I. Traus, B. Waimer, A. Weber und H. Wendel, J. Phys. Colloq., C5, 739-746 (1989): "Plasma-CVD Using Organometallic Compounds".

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30.

H. Grünwald, H.S. Munro und T. Wilhelm, Proc. Int. Conf. Synth. Met. (ISCM 90), Tübingen, 1990 in: Synth. Metals, 41-43, 1457-1469 (1991): "Thin Conductive Films Made by Plasma Polymerization of 2-Chloroacrylonitrile in the Presence of lodine".

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32.

H. Grünwald, H.S. Munro und T. Wilhelm, Mat. Sci. Eng. A139, 356-360 (1991): "Thin Conductive Films Made by Plasma Polymerization of 2 Chloroacrylonitrile in the Presence of lodine".

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