G. Castrischer, P.M. Banks, T.-M. Pang, P. Baumann, H. Grünwald, I. Hussla, G. Lorenz, H. Stoll und H. Ramisch, Microel. Eng. 6., 559-563 (1987): "ln-Situ Temperature Measurements for Aluminium Etching".
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15.
Friday, July 30th, 201014.
Friday, July 30th, 2010I. Hussla, K. Enke, H. Grünwald, G. Lorenz und H. Stoll, J. Phys. D: Appl. Phys.20, 889-896 (1987): “In Situ Silicon Wafer Temperature Measurements During RF Argon-Ion Plasma Etching via Fluoroptic Thermometry".
13.
Friday, July 30th, 2010J. Bartella, H. Grünwald und U. Herwig, Microchim. Acta 365-369 (1987): "XPS and SIMS Investigations on Plasma-Treated Glass Surfaces".
12.
Friday, July 30th, 2010H. Grünwald, “Plasmapolymerisation von Acrylnitril, Propylenoxid und Tributylzinn-Methacrylat”, Dissertation, Tübingen (1987)
11.
Friday, July 30th, 2010H. Grünwald, J. Bartella und U. Herwig, a.a.O, 1720 -1725: “Removing Alkali Ions from the Surface Layer of Glass by Plasma Treatment".
10.
Friday, July 30th, 2010H. Grünwald, H. Suhr, H.S. Munro, Proc. 8th Int.Symp. Plasma Chem., ISPC-8, Tokyo (Hrsg. K. Akashi und A. Kinbara), 1273-1278 (1987): "Influence of Process Parameters and Reactor Configuration on the Chemical Composition of Plasma Polymers".
9.
Friday, July 30th, 2010K. Enke, H. Grünwald, I. Hussla und G. Lorenz, DE 36 33 386 (1.10.1986): "Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten im Vakuum".
8.
Friday, July 30th, 2010H. Grünwald, H.S. Munro, DE 35 41 721 (26.11.85): „Verfahren zur Herstellung dünner, lochfreier, elektrisch leitender Polymerschichten".
7.
Friday, July 30th, 2010H. Suhr, A. Etspüler, E. Feurer, H. Grünwald, C. Haag und C. Oehr, Proc. 7th Int. Symp. Plasma Chem., ISPC-7, Eindhoven (Hrsg. D.C. Schram und G. J. Timmermans), 53-55 (1985): "Conducting, Semiconducting, and Isolating Thin Films".
6.
Wednesday, July 28th, 2010H. Grünwald, H. Suhr, H.S. Munro und C. Till, DE 35 22 817 (26.6.1985): „Verfahren zur Herstellung bewuchsabweisender sowie fraßhemmender Schichten".
5.
Wednesday, July 28th, 2010H. Grünwald und H.S. Munro, DE 35 18 197 (21.5.1985): “Verfahren zur Entfernung von Metallionen aus Körpern aus Glas, keramischen Werkstoffen und sonstigen amorphen Werkstoffen sowie kristallinen Werkstoffen".
4.
Wednesday, July 28th, 2010H. S. Munro und H. Grünwald, J. Polym. Sci., Polym. Chem Ed., 23, 479-488 (1985): "The Influence of Power and Substrate Temperature on the Chemical Composition, Determined by ESCA, of the Inductively Coupled RF Plasma Polymerization of Acrylonitrile".
3.
Wednesday, July 28th, 2010H. Grünwald, Diplomarbeit, Univ. Tübingen (1982): "Oberflächenbehandlung von Diethylenglykolbis(Allylcarbonat) mit HF-Niederdruckplasmen".
2.
Wednesday, July 28th, 2010D. lacocca, H. Suhr, S. Wizemann, P. Henne und H. Grünwald, Proc. 4th Int. Symp. Plasma Chem., ISPC-4, Zürich (Hrsg. S. Veprek und J. Hertz), 483-485 (1979): "Desulfuration of Sulfones".
1.
Wednesday, July 28th, 2010Suhr, S. Wizemann, P. Henne, H. Grünwald und D. lacocca, Acta Scienc. Venezolana, 30, 274-278 (1979): "Desulfurations Using Plasma Techniques II. Decomposition of Sulfones".
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